9月9日，中国工信部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版

街友83045434 · 发表于 3 天前

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9月9日，中国工信部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，里面的氟化氪光刻机照明波长248nm、套刻精度⩽25nm，氟化氩光刻机光源193纳米，套刻≤8nm。
这里有3点值得注意：其一，传统DUV光刻机，其光源为193纳米或248纳米，中国问世的这两型光刻机符合此条件，应该就是我们通常所说的DUV光刻机，只是官方没采用“DUV光刻机”这种说法。其二，这两种光刻机已经开始“推广应用”，意味着它们不是实验室样品，而是成熟产品，并且是拥有自主知识产权的国产光刻机。其三，氟化氩光刻机的套刻精度小于8nm，结合我们的多重曝光技术，有可能能做7nm、5nm芯片。上述三点是作者的个人看法，如果理解的没有偏差，意味着中国DUV光刻机已正式问世，这将是具有里程碑意义的重大事件。

来自: 华人街android版

街友Jiang · 发表于 3 天前

上次发布这种振奋精神的消息是一个什么科研单位把芯片上的标记磨掉，印上自己的标记，然后宣布遥遥领先，骗了国家大把钱几百亿还是多少不记得了

来自: 华人街iPhone版

街友Jiang · 发表于 3 天前

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